濃縮物の産業シリコンの薄片のクリーニングの解決の二重グループ

濃縮物の産業シリコンの薄片のクリーニングの解決の二重グループ

最も効果的にきれいなシリコンの薄片は、シリコーンの製造業者クリーニングのステップの次のリストを推薦します:

ステップ1:きれいな溶媒

首尾よくシリコンの薄片の表面からオイルおよび有機性残余を取除く半導体の製造業の使用溶媒。溶媒がこれらの汚染物を取除く間、溶媒自身はウエファーの表面に実際に残余を同様に残します。従って、2溶媒方法はウエファーが汚染物に自由に示す戻ることを保障するために実行されます。溶剤清浄化方法は下記のように輪郭を描かれます:

アセトンが付いている2つの浴室、1つのガラス容器およびメタノールとの別のものを準備して下さい。

温度にアセトンをの熱するために熱い版にアセトンの容器を55°C.よりもっと置かないで下さい。

暖かい、10分のアセトンの浴室でシリコンの薄片を浸して下さい。

アセトンの浴室が完全だった後、シリコンの薄片を取除き、5分のメタノールの容器に置いて下さい。

時間が上がったら、DI waterのメタノールそして洗浄からウエファーを取除いて下さい。

窒素が付いているシリコンの薄片をブロー ドライして下さい。

ステップ2:RCA-1はきれいになります

半導体の製造工業のそれらはそれからきれいな有機性残余を取除くのにRCAを使用します。きれいなRCAはケイ素を酸化させ、ウエファーの表面に酸化物の薄い保護層を提供します。RCA-1洗浄法は下記のように輪郭を描かれます:

5つparts DI waterおよび1部の水酸化アンモニウム（27%）結合によってRCAの浴室の準備を始めて下さい。

およそ70°C.の温度に解決を熱するために熱い版にRCAの容器を置いて下さい。

この温度が達されたら、容器を熱い版から取除き、1部の過酸化水素（30%）を加えて下さい。解決は分か2の後で泡立ちます。

解決が泡立ち始めたらおよそ15分のためのシリコンの薄片を浸して下さい。

時間が上がるとき、ウエファーをRCAの浴室から取除き、完全に解決を洗う水多数の時を変えているDI waterが付いている容器に置いて下さい。

このプロセスの後で、それに水表面の棒からのウエファーに残余を保障しないために流水の下で容器からウエファーを取除いて下さい。

ステップ3:フッ化水素酸（HF）のすくい

半導体の製造業はそれからシリコンの薄片の表面から二酸化ケイ素を取除くために最後の段階、HFのすくいを、実行します。HFが危ない化学薬品、従ってシリコーンの製造業者は重い手袋のようなその保護ギヤを、推薦し、である目の摩耗はこのステップの間に、いつも身に着けられていますことに注意することは重要です。HFのすくいプロセスは下記のように輪郭を描かれます:

20のml HFと水480のmlの結合することによってHFのすくいの容器を作成して下さい。接触に入って来た場合HFがあらゆるガラス材料と知られているようにガラス ビーカーに対してポリプロピレンのビーカーを常に使用して下さい危険なほどに反応すると。

解決を作成した後、2分のためのシリコンの薄片を浸して下さい。

時間が上がったら、DI waterを動かすことの下でウエファーおよび洗浄を取除いて下さい。

ウエファーの表面にDI waterをかけることによって湿潤性テストを行って下さい。水が小さいビードに回り、転がり落ちれば、表面が酸化物が疎水性そしてないことを知っています。

窒素が付いているシリコンの薄片をブロー ドライして下さい。

シリコーンの製造業者によって推薦された上記のステップを行うことはシリコンの薄片に汚染の挑戦を克服するために半導体の製造工業のそれらのビジネスを助けます。

シリコンの薄片のクリーニングの解決の技術的な変数

私達の工場

工場は26653平方メートルの区域、クラスの研修会、Cのクラスの研修会、Cのクラスのの構造を倉庫、倉庫および他の補助設備カバーします。100種類以上の化学種包含。11000トン/年の生産能力。

最初に、会社の生産のプロフィール

1. Cクラスの研修会
C、2#の3#の1#研修会、7# 4は生産ライン、閉鎖した生産設備を使用して、1#を含んで、2#の3# 1行毎のオートメーションの生産、1L~25L缶で指定を満たすフル オートの液体の満ちるラインを置き2。原料は別のシール面で遂行されます。プロダクト変化の条件に従って制御システムの大多数を形作るために、Cクラスの生産ラインの中央制御部屋はいろいろな種類の器械およびセンサーが装備されています。

2. クラス研修会
クラス2の3つのシャフトのミキサーそして高速分散機械3組が付いている研修会、専門いろいろな種類のペンキおよびコーティングの生産を提供するため。

3. Cの倉庫
3300平方メートル以上のCの倉庫の構造区域に火災ゾーンがありましたり、化学原料および完成品の分類に使用することができ。

4. 倉庫
1400平方メートル以上の2つの倉庫の構造区域に火災ゾーンがありましたり、化学原料のa、Bの部門および完成品によって分類される貯蔵に使用することができ。

5. 他の設備
工場に下水の処置の後で専門家の汚水処理設備、20T/dの工程能力が、ので生産のための開拓された水あります。工場は4組の不用なガスの処置装置が、排出の標準の後のすべての排気ガスの処置設備装備されています。