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よいのIT産業のシリコンの薄片のクリーニング性能の油を取り除きます

認証
中国 Changzhou Junhe Technology Stock Co.,Ltd 認証
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顧客の検討
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大画像 :  よいのIT産業のシリコンの薄片のクリーニング性能の油を取り除きます

商品の詳細:
起源の場所: 陶磁器の常州
ブランド名: JUNHE
証明: ISO9001 TS16949 SGS
モデル番号: 1020
お支払配送条件:
最小注文数量: 500 キログラム
価格: Negotiable
パッケージの詳細: 1000kg/barrel
受渡し時間: 前金のレシートの後の 10 日
供給の能力: 1日あたりの2トン

よいのIT産業のシリコンの薄片のクリーニング性能の油を取り除きます

説明
Name: Silicon Wafer Cleaning Application: IT Industry
PH: 12.0-14.0 Free alkalinity(piont): ≧13.5mg
name: si wafer cleaning model: 1020
ハイライト:

ケイ素切れの洗剤

,

産業化学的清浄

よいのIT産業のシリコンの薄片のクリーニング性能の油を取り除きます

 

RCAきれいなプロセスはシリコンの薄片から有機性残余を取除くためにRCA Corporationで開発される洗浄法に基づいています。クリーニングの解決は水5部、1部27%の水酸化アンモニウムおよび1部30%の過酸化水素から成っています。それは有機性汚染物を取除き、ウエファーの表面に酸化させたケイ素の薄層を残します。

 

シリコンの薄片のクリーニングの特徴

 

1)完全なPPR (性能の価格の比率)の単一のグループ プロダクト

2) カルシウム、マグネシウム、金属、銅、鉛および蛍光体から自由でであって下さい、ROHSの条件を満たして下さい。

3)高精度なIT区域の条件を満たすよい油を取り除く性能。

 

技術的な変数をきれいにするシリコンの薄片

 

分類

プロジェクト

JH-1020シリコンの薄片のクリーニング 標準をテストして下さい
出現 黄色がかった液体に無色 視覚化
比重量 1.01-1.25 デンシメーター
pH 12.0-14.0 PHの器械
自由なアルカリ性(piont) ≧13.5mg CYFC

 

シリコンの薄片のクリーニングの指示

 

1) 純粋な水を4分の3までクリーニング タンクに入れて下さい、そして、加えて下さい3%の-5%集中の代理店を、加えて下さい事務レベル、最後まで水を、熱して下さい働く温度まで浴室の解決を。

2) ある程度のケイ素切れの油を取り除いた後浴室の解決を完全に変える必要があって下さい。

酸化を避ける3)は空気の露出された時間を減らします。

4) 働く温度50-65の程度、処分の時間:2-5minutes.

 

 

 

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連絡先の詳細
Changzhou Junhe Technology Stock Co.,Ltd

コンタクトパーソン: kyjiang

電話番号: +8613915018025

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